Fachkundelehrgang nach § 4 Deponieverordnung

Staatlich anerkanntes eintägiges Fachseminar zur Auffrischung der Fachkunde gemäß § 4 DepV für Leitungs- und Aufsichtspersonal von Deponien

Die Rechtsverpflichtung für die Leitung von Deponien verantwortlichen Personen, alle zwei Jahre die Fortbildung zu erneuern, ist in § 4, Abs. 2 DepV geregelt

Als einem der ersten Seminaranbieter ist dem Umweltinstitut Offenbach die Anerkennung gemäß § 4 Nr. 2 DepV zur Durchführung von Lehrgängen zur Weiterbildung des Leitungspersonals erteilt worden. Notwendig wurde ein Anerkennungsverfahren durch die erste Verordnung zur Änderung der Deponieverordnung, die seit 01. Dezember 2011 gültig ist. Dies bedeutet für das Leitungspersonal von Deponien, dass ein Lehrgang gemäß § 4 DepV ohne Anerkennung praktisch wertlos ist.

Die Anerkennung wurde am 02. Februar 2012 vom RP-Darmstadt, Abt. Arbeitsschutz und Umwelt Frankfurt, ausgesprochen.

Mit § 4 der Deponieverordnung werden die Deponiebetreiber verpflichtet dafür Sorge zu tragen, dass die für die Leitung und Beaufsichtigung einer Deponie verantwortlichen Personen durch geeignete Fortbildungen über den für die Tätigkeit erforderlichen aktuellen Wissensstand verfügen. Hierzu sind mindestens alle zwei Jahre geeignete Fachlehrgänge zu besuchen.

Ziele

Erwerb oder Erhalt der Fachkunde gemäß § 4 der Deponieverordnung. Darüber hinaus werden praxisnahe Tipps zur Bewältigung der vielfältigen Problemstellungen beim Deponiebetrieb gegeben.

Zielgruppe

Mit diesem Fachlehrgang, der sich in erster Linie an verantwortliche Personen wendet, werden die notwendigen deponiespezifischen Kenntnisse, wie sie von der Deponieverordnung verlangt werden, vermittelt.

Inhalte

  • Vorstellungsrunde / Einführung in die Thematik, Übersicht über gesetzliche Grundlagen, generelle anlagenbezogene und betriebliche Anforderungen, Normenhierarchie
    • Wichtige europäische Regelungen
    • Bundes- und Landesregelungen
    • Verwaltungs- und Kostenrecht
    • Maßgebliche Gesetze für Änderungsgenehmigungen
    • Anzeigen und Genehmigungen nach KrWG
    • Aktuelle Änderungen des KrWG und der Deponieverordnung, sonstige Vorschriften und Gesetze für den Betrieb und Genehmigung von Anlagen auf Deponien
    • Die neue Deponieverordnung (gültig seit dem 01.12.2011)
    • Ausnahmevorschriften
  • Deponieerrichtung, Deponieweiterbetrieb,
    • Abdichtungssysteme / LAGA
    • Abfallarten und Abfallvorbehandlung
    • Änderung der Art und Beschaffenheit der Beseitigungsabfälle (alte und neue Regelungen nach LAGA, EAK & AVV)
    • Stilllegung und Nachsorge
    • Formaler Ablauf
    • Emissionen und Umweltauswirkungen von Deponien
    • Auslegung der neuen Deponieverordnung
    • Grundlagen biologischer Prozesse im Deponiekörper
    • Sickerwasser- und Deponiegasbildung
  • Nachweispflichten, Register, Annahmevorschriften
  • Überwachung, Organisation und Dokumentation
    • Organisationsstrukturen
    • Kontrollen
    • Betriebshandbuch
    • Betriebstagebuch
    • Datenerfassung
    • Verantwortung
    • Aufgaben der Überwachungsbehörden
    • Strafrechtliche Relevanz / Haftung
    • Arbeitsschutz und Sicherheit / Brandschutz
    • Arbeitsschutzgesetz
    • Arbeitssicherheitsgesetz
    • Arbeitsstättenverordnung
    • Baustellenverordnung
    • Betriebssicherheitsverordnung
    • GUV-R 127
    • Brandschutz

Referenten

  • Dipl.-Umweltwiss. Peter Wagner, Rhein-​Main Deponiepark Flörsheim-​Wicker

Unterrichtszeiten

9.30 - 17.00 Uhr

Täglich eine Mittags- und zwei Kaffeepausen

Termine

Seminargebühren

  • Seminargebühr:
    395,00 € zzgl. MwSt.
In der Gebühr sind ausführliche Seminarunterlagen, Erfrischungsgetränke, Kaffee, Gebäck sowie Pausensnacks enthalten.

Termine in Hamburg in Kooperation mit der Karl Meyer Akademie

Folgende Seminare könnten Sie auch interessieren:

Um unsere Webseite für Sie optimal zu gestalten und fortlaufend verbessern zu können, verwenden wir Cookies. Durch die weitere Nutzung der Webseite stimmen Sie der Verwendung von Cookies zu. Weitere Informationen zu Cookies erhalten Sie in unserer Datenschutzerklärung.